ПЛАЗМЕННЫЕ ЭМИССИОННЫЕ СИСТЕМЫ ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Продолжение работы, опубликованной в предыдущем номере. Представлена конструкция плазменного источника электронов со скрещенными E×H полями, способного формировать низкоэнергетичные электронные и ионные пучки для реализации плазмохимических процессов и технологий нанесения пленок и покрытий различного назначения методами попеременного или одновременного теплофизического электронного и модифицирующего ионного воздействия. Предложен ряд эскизов конструкций структур плазменных источников, перспективных к использованию для реализации комбинированного воздействия электронно-ионными пучками.
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Библиографические ссылки
Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Часть 1 / В.Г. Залесский [и др.] // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2016. – № 12. – С. 37–44.
Антонович, Д.А. Электронно-ионный источник для реализации комбинированного воздействия на поверхность / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2014. – № 4. – С. 113–118.
Антонович, Д.А. Применение низкоэнергетичных пучков заряженных частиц для реализации комбинированного воздействия на материалы / Д.А. Антонович, В.Г. Залесский, П.Н. Солдатенко // Перспективные материалы и технологии : сб. материалов междунар. симп. – Витебск, 2015. – С. 216–218.
Плазменные эмиссионные системы с ненакаливаемыми катодами для ионно-плазменных технологий / В.Т. Барченко [и др.] ; под общ. ред. В.Т. Барченко // СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2011. – 220 с.
Семенов, А.П. Пучки распыляющих ионов: получение и применение / А.П. Семенов. – Улан-Удэ : Изд-во БНЦ СО РАН, 1999. – 207 с.
Исследование влияния ионно-электронной эмиссии на характеристики электронного источника с плазменным катодом / С.В. Григорьев [и др.] // Плазменная эмиссионная электроника : тр. II Междунар. семинара, Улан-Уде, 23-30 июня 2009 г. / БНЦ СО РАН. – Улан-Уде, 2009. – С. 37–44.
Гаврилов, Н.В. Формирование пучка ионов, извлекаемых из плазмы тлеющего разряда / Н.В. Гаврилов, Д.Р. Емлин // ЖТФ. – 2000. – Т. 70, № 5. – С. 74–81.
Никулин, С.П. Влияние ионной эмиссии на характеристики тлеющего разряда с полым катодом / С.П. Никулин // ЖТФ. – 2000. – Т. 70, № 10. – С. 122–124.
Кузьмичёв, А. И. Магнетронные распылительные системы / А. И. Кузьмичёв. – Киев : Аверс, 2008. – Кн. 1 : Введение в физику и технику магнетронного распыления. – 244 с.