ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК ПРОХОЖДЕНИЯ ЭНЕРГИИ СВЧ-ПОЛЯ В ПЛАЗМУ ВОЗБУЖДАЕМОГО РАЗРЯДА
##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Изучение вопроса о проникновении СВЧ-волны (f =2,45 ± 0,05 ГГц) в центр возбуждаемого ею газового разряда в кислороде в плазмотроне, построенном на базе резонатора прямоугольного типа, проводилось применительно к задаче СВЧ-плазмохимической обработки кремниевых пластин. Исследование выполнялось тремя независимыми методами: с использованием термопар; по данным показаний введенного в разряд «активного зонда»; измерением электрическими зондами электропроводности пространства, изолированного от плазменного объема. Результаты проведенных экспериментов указывают на то, что при уровнях плотности потока СВЧ-мощности в разрядном объеме порядка 0,06…0,08 Вт/см3 происходит проникновение СВЧ-поля в объем зоны разряда. Этот эффект необходимо учитывать при организации процессов плазмохимической обработки (влияние СВЧ-поля на параметры обрабатываемых структур, «загрузочный» эффект, проектирование распределенной системы подвода СВЧ-энергии к зоне обработки, формирующуюся определенную структуру распределения СВЧ-поля в зоне плазмообразования и т.д.) и анализе результатов обработки материалов и структур, подверженных воздействию СВЧ-энергии.
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Библиографические ссылки
Электрофизические процессы и оборудование в технологии микро- и наноэлектроники: моногр. / А.П. Достанко [и др.]; под ред. акад. НАН Беларуси А.П. Достанко и д-ра техн. наук А.М. Русецкого. – Минск: Бестпринт, 2011. – 216 с.
Бордусов, С.В. Плазменные СВЧ-технологии в производстве изделий электронной техники / С.В. Бордусов; под ред. А.П. Достанко. – Минск: Бестпринт, 2002. – 452 с.
Microwave Discharges: Fundamentals and Applications. 3-rd International Workshop, Abbaye Royale de Fontevraud, France, 20 – 25 April, 1997 // Journal de Physique IV. – 1998. – Vol. 8, Pr. 7. – 421 p.
Мак-Доналд, А. Сверхвысокочастотный пробой в газах / А. Мак-Доналд. – М.: Мир, 1969. – 212 c.
Физические основы электрического пробоя газов / А.Ф. Дьяков [и др.]. – М.: Изд-во МЭИ, 1990. – 400 с.
Бордусов, С.В. Классификация СВЧ-плазмотронов для производства изделий электронной техники / С.В. Бордусов // Электронная обработка материалов. – 2002. – № 1(213). – С. 79 – 82.
Бордусов, С.В. Конструктивные особенности установки и технологические процессы СВЧ-плазменной обработки материалов в условиях низкого вакуума / С.В. Бордусов // Материалы, технологии, инст-рументы. – 2001. – Т. 6, № 4. – С. 62 – 64.
Plasma-Preen Cleaner/Etcher (Patent Pending) [Электронный ресурс].
Bordusau, S.V. Investigation of the influence of the discharge chamber “loading” effect on the optical characteristics of resonator type microwave plasmatron / S.V. Bordusau, S.I. Madveika // Acta Technica. – 2011. – № 56. – P. 284 – 290.
Преображенский, В.П. Теплотехнические измерения и приборы: учебник для вузов по спец. «Автоматизация теплоэнергетических процессов» / В.П. Преображенский. – 3-е изд. – М.: Энергия, 1978. – 704 с.
Билько, М.И. Измерение мощности на СВЧ / М.И. Билько, А.К. Томашевский. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Радио и связь, 1986. – 168 с.
Тареев, Б.М. Физика диэлектрических материалов: учеб. пособие для вузов / Б.М. Тареев. – М.: Энергоиздат, 1982. – 320 с.
Бордусов, С.В. Исследование влияния эффекта «загрузки» разрядной камеры на оптические характеристики СВЧ-плазмотрона резонаторного типа / С.В. Бордусов, С.И. Мадвейко // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. В. Промышленность. Прикладные науки. – 2010. – № 8. – С. 103 – 106.
Мадвейко, С.И. Процесс плазмохимического удаления фоторезистивных пленок в СВЧ-плазмохимической установке с резонатором прямоугольного типа / С.И. Мадвейко // Нанотехнологии-2010: материалы междунар. науч.-техн. конф., Геленджик, 19 – 24 сент. 2010 г. – С. 227 – 229.