[1]
АБРАМОВ, С.А., БРИНКЕВИЧ, Д.И., ПРОСОЛОВИЧ, В.С., ВАБИЩЕВИЧ, С.А. и ЗУБОВА, О.А. 2025. ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ НЕГАТИВНЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ ДЛЯ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. 2 (окт. 2025), 18-25. DOI:https://doi.org/10.52928/2070-1624-2025-45-2-18-25.