АБРАМОВ, С. А.; БРИНКЕВИЧ, Д. И.; ПРОСОЛОВИЧ, В. С.; ВАБИЩЕВИЧ, С. А.; ЗУБОВА, О. А. ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ НЕГАТИВНЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ ДЛЯ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, [S. l.], n. 2, p. 18-25, 2025. DOI: 10.52928/2070-1624-2025-45-2-18-25. Disponível em: https://journals.psu.by/fundamental/article/view/8494. Acesso em: 16 ноя. 2025.