АБРАМОВ, С. А., Д. И. БРИНКЕВИЧ, В. С. ПРОСОЛОВИЧ, С. А. ВАБИЩЕВИЧ, и О. А. ЗУБОВА. «ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ НЕГАТИВНЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ ДЛЯ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ». Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, no. 2 (октябрь 31, 2025): 18-25. просмотрено ноябрь 16, 2025. https://journals.psu.by/fundamental/article/view/8494.