АБРАМОВ СА, БРИНКЕВИЧ ДИ, ПРОСОЛОВИЧ ВС, ВАБИЩЕВИЧ СА, ЗУБОВА ОА. ЭЛЕМЕНТНЫЙ СОСТАВ НЕГАТИВНЫХ ФОТОРЕЗИСТОВ ДЛЯ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки [Интернет]. 31 октябрь 2025 г. [цитируется по 16 ноябрь 2025 г.];(2):18-25. доступно на: https://journals.psu.by/fundamental/article/view/8494