СКВОЗНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ПРИ МАГНЕТРОННОМ РАСПЫЛЕНИИ
##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Представлены разработанные методики для моделирования процессов магнетронного распыления. Показаны два этапа процесса моделирования: расчет профиля эрозии мишени; формирование профиля толщины тонкопленочных слоев для различных форм зон распыления и систем перемещения подложек (неподвижные подложка и магнетрон; линейное перемещение подложек; нанесение с барабанными вращающимися подложкодержателями при расположении магнетрона снаружи или внутри барабана). Анализ результатов моделирования свидетельствует о том, что погрешность моделей не превышает 10 %. Модели для формирования покрытия могут использоваться только для моделирования процессов магнетронного нанесения слоев при рабочем давлении в зоне нанесения не более 1 Па, так как не учитывают эффекты термализации распыленного потока.
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Библиографические ссылки
Райзер, Ю.П. Физика газового разряда: учеб. рук. / Ю.П. Райзер. – М.: Наука, 1987. – 592 с.
Рогов, А.В. Исследование магнетронного разряда постоянного тока методом подвижного сеточного зонда / А.В. Рогов, И.Ю. Бурмакинский // Журнал технической физики. – 2004. – Т. 74, № 4. – C. 27 – 30.
ELCUT программа моделирования электромагнитных, тепловых и механических задач [Электронный ресурс].
Знаменский, А.Г. Магнетронное напыление при повышенных давлениях: процессы в газовой среде / А.Г. Знаменский, В.А. Марченко // Журнал технической физики. – 1998. – Т. 68, № 7. – С. 24 – 32.
Ласка В.Л., Митрофанов А.П., Карманенко С.Ф. // Электронная техника. Сер. Электровакуумные и газоразрядные приборы. – 1985. – Вып. 1, № 106. – С. 101.
Meyer, K. Thermalization of sputtered atoms / K. Meyer, I. Schuller, C. Falco // J. Appl. Phys. – 1981. – Vol. 52, № 9. – P. 5803 – 5805.
Бешенков, В.Г. Импульсы частиц, эмитированных мишенью при интенсивном облучении низкоэнергетичными ионами / В.Г. Бешенков, А.Б. Григорьев, В.А. Марченко // Журнал технической физики. – 2002. – Т. 72, № 5. – С. 108 – 114.
Касинский, Н.К. Формирование заданного распределения толщины тонких пленок вакуумными методами осаждения / Н.К. Касинский, В.С. Томаль, В.Н. Ивахненко // Вакуумная техника и технология. – 2002. – Т. 12, № 4 – С. 197 – 204.
Ионно-плазменная система для нанесения многослойных структур методом реактивного ионно-лучевого и магнетронного распыления / Д.А. Голосов [и др.] // Вакуумная техника и технология. – 2010. – Т. 20, № 4. – С. 227 – 234.
Установка для нанесения многослойных тонкопленочных покрытий на внутреннюю поверхность крупноформатных цилиндрических объектов ионно-плазменными методами: пат. 2737 Респ. Беларусь, МПК7 С 23С 14/00 / А.П. Достанко, И.В. Свадковский, Д.А. Голосов, С.М. Завадский; заявитель БГУИР. – № u 20050503; заявл. 17.08.05; опубл. 15.02.06. // Афіцыйны бюл. / Нац. цэнтр інтэлектуал. уласнасці. – 2006. – 6 c.
Рекомендуемые статьи автора (авторов)
- С. П. КУНДАС, А. В. ЛЕМЗИКОВ, Д. Г. ИВАНОВ, С. Н. МЕЛЬНИКОВ, С. В. МЕДВЕДЕВ, МЕТОДИКА МОДЕЛИРОВАНИЯ НАПРЯЖЕННО-ДЕФОРМИРОВАННОГО СОСТОЯНИЯ СТАЛЬНЫХ ДЕТАЛЕЙ В СОСТАВЕ СБОРОЧНЫХ ЕДИНИЦ С УЧЕТОМ ИХ ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ ЗАКАЛКИ, Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки: № 4 (2014)