END-TO-END MODELLING OF THE PROCESSES OF APPLICATION OF COATINGS AT MAGNETRON DISPENSING
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
Methods of modeling of processes of magnetron dispensing are presented. Two stages of modeling process are shown: calculation of the profile of target erosion; formation of the profile of thickness of thin-film layers for various forms of dispensing areas and systems of base displacement (immobile bases and magnetron; linear displacement of bases; application with drum rotatory substrate holders when magnetron is situated inside or outside a drum). The analysis of the results of modeling indicate, that model errors don’t exceed 10 %. Models for coating formation can be used only for modeling of the processes of magnetron dispensing at work-ing pressure in the application area not more than 1,0 Pa, for the effects of thermalization of dispensed stream are not taken into account.
Article Details
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
References
Райзер, Ю.П. Физика газового разряда: учеб. рук. / Ю.П. Райзер. – М.: Наука, 1987. – 592 с.
Рогов, А.В. Исследование магнетронного разряда постоянного тока методом подвижного сеточного зонда / А.В. Рогов, И.Ю. Бурмакинский // Журнал технической физики. – 2004. – Т. 74, № 4. – C. 27 – 30.
ELCUT программа моделирования электромагнитных, тепловых и механических задач [Электронный ресурс].
Знаменский, А.Г. Магнетронное напыление при повышенных давлениях: процессы в газовой среде / А.Г. Знаменский, В.А. Марченко // Журнал технической физики. – 1998. – Т. 68, № 7. – С. 24 – 32.
Ласка В.Л., Митрофанов А.П., Карманенко С.Ф. // Электронная техника. Сер. Электровакуумные и газоразрядные приборы. – 1985. – Вып. 1, № 106. – С. 101.
Meyer, K. Thermalization of sputtered atoms / K. Meyer, I. Schuller, C. Falco // J. Appl. Phys. – 1981. – Vol. 52, № 9. – P. 5803 – 5805.
Бешенков, В.Г. Импульсы частиц, эмитированных мишенью при интенсивном облучении низкоэнергетичными ионами / В.Г. Бешенков, А.Б. Григорьев, В.А. Марченко // Журнал технической физики. – 2002. – Т. 72, № 5. – С. 108 – 114.
Касинский, Н.К. Формирование заданного распределения толщины тонких пленок вакуумными методами осаждения / Н.К. Касинский, В.С. Томаль, В.Н. Ивахненко // Вакуумная техника и технология. – 2002. – Т. 12, № 4 – С. 197 – 204.
Ионно-плазменная система для нанесения многослойных структур методом реактивного ионно-лучевого и магнетронного распыления / Д.А. Голосов [и др.] // Вакуумная техника и технология. – 2010. – Т. 20, № 4. – С. 227 – 234.
Установка для нанесения многослойных тонкопленочных покрытий на внутреннюю поверхность крупноформатных цилиндрических объектов ионно-плазменными методами: пат. 2737 Респ. Беларусь, МПК7 С 23С 14/00 / А.П. Достанко, И.В. Свадковский, Д.А. Голосов, С.М. Завадский; заявитель БГУИР. – № u 20050503; заявл. 17.08.05; опубл. 15.02.06. // Афіцыйны бюл. / Нац. цэнтр інтэлектуал. уласнасці. – 2006. – 6 c.
Most read articles by the same author(s)
- S. KUNDAS, A. LEMZIKOV, D. IVANOV, S. MELNIKOV, S. MEDVEDEV, A METHODIC OF STRESS-STRAIN STATE SIMULATION OF STEEL DETAILS AS PART OF ASSEMBLY UNITS WITH TAKING INTO ACCOUNT THE IR PROVISIONAL HARDENING, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 4 (2014)