ВОЗМОЖНОСТЬ ПОВЫШЕНИЯ ПЕРВЕАНСА В ПЛАЗМЕННЫХ ЭМИССИОННЫХ СИСТЕМАХ НА ОСНОВЕ РАЗРЯДА В СКРЕЩЕННЫХ E×H ПОЛЯХ

##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##

Просмотров аннотации: 141
Загрузок PDF: 59
pdf (rus)
Опубликован: май 6, 2020
Ключевые слова:
perveance, plasma emission systems, plasma emitter, beam current pulses, discharge in crossed E×H fields, power systems for plasma emission systems первеанс, плазменные эмиссионные системы, плазменный эмиттер, импульсы тока пучка, разряд в скрещенных E×H полях, системы электропитания плазменных эмиссионных систем
Выпуск
№ 4 (2020)
Раздел
Физика

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

С. Н. АБРАМЕНКО
Полоцкий государственный университет
Д. А. АНТОНОВИЧ
Полоцкий государственный университет
https://orcid.org/0000-0001-5652-9470
В. А. ГРУЗДЕВ
Полоцкий государственный университет
П. Н СОЛДАТЕНКО
Полоцкий государственный университет

Аннотация

Анализ известных конструкций плазменных источников заряженных частиц и основных физических процессов в них показывает, что существует возможность модификации этих структур с целью создания более эффективных условий формирования плазмы и получения тока эмиссии без существенного усложнения конструкции и изменения систем электропитания. В работе представлен макет конструкции плазменного источника заряженных частиц в скрещенных E×H полях с повышенным первеансом. Приведена его электродная структура, предложен механизм работы источника, приведены основные характеристики, показана перспективность для дальнейшей разработки на его основе высокопервеансного источника для промышленного применения.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
АБРАМЕНКО, С. Н., АНТОНОВИЧ, Д. А. ., ГРУЗДЕВ, В. А., & СОЛДАТЕНКО, П. Н. (2020). ВОЗМОЖНОСТЬ ПОВЫШЕНИЯ ПЕРВЕАНСА В ПЛАЗМЕННЫХ ЭМИССИОННЫХ СИСТЕМАХ НА ОСНОВЕ РАЗРЯДА В СКРЕЩЕННЫХ E×H ПОЛЯХ . Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, (4), 48-52. извлечено от https://journals.psu.by/fundamental/article/view/445
Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.

Биографии авторов

Д. А. АНТОНОВИЧ, Полоцкий государственный университет

канд. техн. наук, доц.

В. А. ГРУЗДЕВ, Полоцкий государственный университет

д-р. техн. наук, проф.

Библиографические ссылки

Барченко, В.Т. Плазменные эмиссионные системы с ненакаливаемыми катодами для ионно-плазменных технологий / В.Т. Барченко. – СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2011. – 220 с.

Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Ч. 1 / Д.А. Антонович [и др.]. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2016. – № 12. – С. 37–44.

Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Ч. 2 / Д.А. Антонович [и др.]. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2017. – № 4 – С. 45–51.

Молоковский, С.И. Интенсивные электронные и ионные пучки / С.И. Молоковский, А.Д. Сушков. – Л. : Энергия, 1972. – 274 с.

Залесский, В.Г. Эмиссионные и электронно-оптические системы плазменных источников электронов : дис. … д-ра физ.-мат. наук : 01.04.04 / В.Г. Залесский. – Минск, 2015. – 316 л.

Чен, Ф. Введение в физику плазмы / Ф. Чен. – М. : Мир, 1987. – 398 с.

Antonovich, D.A. Plasma emission systems for electron and ion-beams technologies / D.A. Antonovich [et al.]. // High Temperature Material Processes : An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. –2017. – Vol. 21, iss. 2. – P. 143–159.

Coating by Cathode Disintegration : pat. US 2,146,025 / Penning F.M. ; N.V. Philips, Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, The Netherlands. – 1939.

Рекомендуемые статьи автора (авторов)