POSSIBILITY OF INCREASING PERVEANCE IN PLASMA EMISSION SYSTEMS BASED ON DISCHARGE IN CROSSED E×H FIELDS
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
An analysis of the known designs of plasma sources of charged particles and the basic physical processes in them shows that it is possible to modify these structures in order to create more effective conditions for the formation of plasma and to obtain an emission current, without significantly complicating the design and changing the power supply systems. The paper presents a mock-up of the design of a plasma source of charged particles in crossed E×H fields with an increased perveance. Its electrode structure is given, the source’s mechanism of operation is proposed, the main characteristics are given, and the prospects for further development of a highperveance source for industrial applications based on it are shown.
Article Details
![Creative Commons License](http://i.creativecommons.org/l/by/4.0/88x31.png)
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
A. ANTONOVICH, Polotsk State University
канд. техн. наук, доц.
V. GRUZDEV, Polotsk State University
д-р. техн. наук, проф.
References
Барченко, В.Т. Плазменные эмиссионные системы с ненакаливаемыми катодами для ионно-плазменных технологий / В.Т. Барченко. – СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2011. – 220 с.
Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Ч. 1 / Д.А. Антонович [и др.]. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2016. – № 12. – С. 37–44.
Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Ч. 2 / Д.А. Антонович [и др.]. // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2017. – № 4 – С. 45–51.
Молоковский, С.И. Интенсивные электронные и ионные пучки / С.И. Молоковский, А.Д. Сушков. – Л. : Энергия, 1972. – 274 с.
Залесский, В.Г. Эмиссионные и электронно-оптические системы плазменных источников электронов : дис. … д-ра физ.-мат. наук : 01.04.04 / В.Г. Залесский. – Минск, 2015. – 316 л.
Чен, Ф. Введение в физику плазмы / Ф. Чен. – М. : Мир, 1987. – 398 с.
Antonovich, D.A. Plasma emission systems for electron and ion-beams technologies / D.A. Antonovich [et al.]. // High Temperature Material Processes : An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. –2017. – Vol. 21, iss. 2. – P. 143–159.
Coating by Cathode Disintegration : pat. US 2,146,025 / Penning F.M. ; N.V. Philips, Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, The Netherlands. – 1939.