МОДЕЛИРОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК РАЗРЯДА В СКРЕЩЕННЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ И МАГНИТНОМ ПОЛЯХ: ОСНОВНЫЕ ФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ И ПРОСТЕЙШИЕ АНАЛИТИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ

##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##

Просмотров аннотации: 3
Загрузок PDF: 1
pdf (rus)
Опубликован: сен 28, 2012
Выпуск
№ 12 (2012)
Раздел
Физика

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

В. Т. БАРЧЕНКО
Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ»
Е. А. ПЕТРОВА
Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ»
В. Г. ЗАЛЕССКИЙ
Полоцкий государственный университет

Аннотация

Представлены результаты моделирования основных характеристик газовых разрядов в скрещенных электрическом и магнитном полях с катодным и анодным падением потенциала. Рассмотрена картина физических явлений как на электродах, так и в межэлектродном пространстве. Описаны инженерные аналитические модели, обладающие физической прозрачностью, которые несмотря на свою простоту достаточно хорошо описывают экспериментальные данные.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
БАРЧЕНКО, В. Т., ПЕТРОВА, Е. А., & ЗАЛЕССКИЙ, В. Г. (2012). МОДЕЛИРОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК РАЗРЯДА В СКРЕЩЕННЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ И МАГНИТНОМ ПОЛЯХ: ОСНОВНЫЕ ФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ И ПРОСТЕЙШИЕ АНАЛИТИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, (12), 57-63. извлечено от https://journals.psu.by/fundamental/article/view/9824
Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.

Биографии авторов

В. Т. БАРЧЕНКО, Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ»

канд. техн. наук, доц.

В. Г. ЗАЛЕССКИЙ, Полоцкий государственный университет

канд. физ.-мат. наук, доц.

Библиографические ссылки

Данилин, Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок / Б.С. Данилин. – М.: Энергоатомиздат, 1987. – 264 с.

Кузьмичев, А.И. Магнетронные распылительные системы / А.И. Кузьмичев. – Киев: Аверс, 2008. – Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления. – 244 с.

Данилин, Б.С. Получение тонких пленок методом ионного покрытия / Б.С. Данилин, В.И. Мазутенко // Зарубежная электроника. – 1978. – Вып. 2. – С. 3 – 57.

Грановский, В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / В.Л. Грановский; под ред. Л.А. Сена и В.Е. Голанта. – М.: Наука, 1971. – 543 с.

Shuurman, W. Investigation of a low pressure Penning discharge / W. Shuurman // Physica. – 1967. – V. 36, № 1. – Р. 136 – 141.

Крейндель, Ю.Е. Плазменные источники электронов / Ю.Е. Крейндель. – М.: Атомиздат, 1977. – 144 с.

Абрамов, И.С. Математическое моделирование приборов и устройств плазменной электроники / И.С. Абрамов, В.Т. Барченко. – СПб.: Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 1999. – 72 с.

Барченко, В.Т. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве / В.Т. Барченко, Ю.А. Быстров, Е.А. Колгин. – СПб.: Энергоатомиздат. – С-Петерб. отд-ние, 2001. – 332 с.

Рекомендуемые статьи автора (авторов)