PLASMA-EMISSION SYSTEMS FOR ELECTRON-BEAM TECHNOLOGIES. Part 1
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
Order to maintain competitiveness in the mechanical engineering market, enterprises are forced to impose more strict requirements for the quality of manufactured products, and therefore the increased requirements for welding processes, surface treatment, etc. To achieve entry requirements are encouraged to use a plasma electron source. The main electron beam technologies are shown. Presented the gas-discharge structure that can forming electron and ion beams, with parameters that satisfying to represented technologies.
Article Details
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
References
Окс, Е. М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения / Е. М. Окс. – Томск : Изд-во НТЛ, 2005. – 216 с.
Источники электронов с плазменным эмиттером / Ю. Е. Крейндель [и др.] ; под общ. ред. Ю. Е. Крейнделя. – Новосибирск : Наука, 1983. – 120 с.
Залесский, В. Г. Эмиссионные и электронно-оптические системы плазменных источников электронов : дис. … д-ра физ.-мат. наук : 01.04.04 / В. Г. Залесский. – Минск, 2015. – 316 л.
Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией : в 2 ч. / А. В. Жаринов [и др.] // ЖТФ. – 1986. – Т. 56, Вып. 1. – Ч. I. – С. 66–70.
Разработка и применение источников интенсивных электронных пучков : сб. науч. тр. / науч. ред. Г. А. Месяц. – Новосибирск : Наука, 1976. – 191 с.
Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые / А. П. Достанко [и др.] ; под общ. ред. А. П. Достанко. – Минск : Бестпринт, 2009. – 199 с.
Ионно-плазменные технологии в электронном производстве / В. Т. Барченко [и др.] ; под общ. ред. Ю. А. Быстрова. – СПб. : Энергоатомиздат, 2001. – 332 с.