INTERACTION OF THE INDENTOR WITH FILMS OF COPOLYMERS ON THE BASIS OF METHYLMETHACRYLATE
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
The processes at the indention of a diamond indentor into the films of statistical methacrylamid/ methylmethacrylate copolymer synthesized on plates of single-crystal silicon was investigated. It was established that fields of elastic tension near a surface of a polymeric film have significant effect on a print form. Were observed as the stretching tension, and compression tension. Around prints the interferential picture caused by formation a near-surface layer with the index of refraction other than volume is observed. The critical tension of the beginning of modification of a near-surface layer of polymer is calculated. It was shown that strong adhesive interaction between silicon and copolymer has significant effect on strength properties of polymeric films.
Article Details
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
References
Комплексные исследования эффектов зарядки полимерного резиста (ПММА) при электронной литографии / Э.И. Рау и [др.] // Микроэлектроника. – 2013. – Т. 42, № 2. – С. 116–126.
Исследование влияния синхротронного излучения на термофизические параметры рентгенорезиста ПММА / А.Н. Генцелев и [др.] // Поверхность. – 2012. – № 1. – С. 14–20.
Формирование и исследование толстых резистивных слоев ПММА для LIGA-технологии / О.Н. Бобровникова и [др.] // Поверхность. – 2005. – № 9. – С. 38–43.
Тригуб, В.И. Модификация тонких пленок полиметилметакрилата и метилметакрилата-метилакриловой кислоты под воздействием ультразвука и электронов / В.И. Тригуб, А.В. Плотнов, С.В. Смирнов // Физика и химия обработки материалов. – 2003. – № 4. – С. 92–94.
Моро, У. Микролитография. Принципы, методы, материалы : в 2 ч. / У. Моро – М. : Мир, 1990. – Ч. 2. – 632 с.
Химически усиленные резисты для литографии высокого разрешения / С.А. Булгакова и [др.] // Микроэлектроника. – 2013. – Т. 42, № 3. – С. 206–217.
Hidrid silica-polymer structure for integrated optical waveguides with new potentialities / D. Bosc [et al.] // Mater. Sci. Eng. – 1999. – V. 75. – P. 155–160.
Формирование диэлектрических микроволноводов в системе полимер/SiO2/Si с использованием ионного облучения / А.В. Леонтьев [и др.] // Физика и химия обработки материалов. – 2005. – № 3. – С. 79–84.
Дебский, В. Полиметилметакрилат / В. Дебский. – М.-Л. : Химия, – 1972. – 152 с.
Щука, А.А. Наноэлектроника / А.А. Щука. – М. : Физматкнига, 2007. – 464 с.
Poole, Ch. Introduction of Nanotechnology / Ch. Poole, F. Owens. – Indianapolis : John Wiley & Sons, Inc, 2003. – 400 p.
Головин, Ю.И. Новые принципы, техника и результаты исследования динамических характеристик твердых тел в микрообъемах / Ю.И. Головин // Журнал технической физики. – 2000. – Т. 70, № 5. – С. 82–91.
Литвинов, М.Ю. Методология определения механических свойств полупроводниковых материалов с помощью метода непрерывного вдавливания индентора / М.Ю. Литвинов, Ю.М. Литвинов // Известия вузов. Материалы электронной техники. – 2004. – № 4. – С. 11–16.
Калоша, В.К. Математическая обработка результатов эксперимента / В.К. Калоша, С.И. Лобко Т.С. Чикова. – Минск : Высш. шк., 1982. – 103 с.
Зависимость микротвердости эпитаксиальных слоев четверных твердых растворов соединений А IIIBV от их состава /М.В. Меженный [и др.] // Неорганические материалы. – 1990. – Т. 26, № 8. – С. 1601–1604.
Шугуров, А.Р. Особенности определения механических характеристик тонких пленок методом наноиндентирования / А.Р. Шугуров, А.В. Панин, К.В.Осколков // Физика твердого тела. – 2008. – Т. 50, № 6. – С. 1007–1012.
Наноиндентирование и деформационные характеристики наноструктурных боридонитридных пленок / Андриевский Р.А. [и др.] // Физика твердого тела. – 2000. – Т. 42, № 9. – С. 1624–1627.
Панин, А.В. Исследование механических свойств тонких пленок Ag на кремниевой подложке методом наноиндентирования / А.В.Панин, А.Р. Шугуров, К.В. Оскомов // Физика твердого тела. – 2005. – Т.47, № 11. – С. 1973–1977.
Сойфер, Я.М. Исследование локальных механических свойств монокристаллов хлористого калия методом атомно-силовой микроскопии / Я.М. Сойфер, А. Вердян // Физика твердого тела. – 2003. – Т. 45, № 9. – С. 1621–1625.
Булычев, С.И. Соотношение между восстановленной и невосстановленной твердостью при испытании наномикроиндентированием / С.И. Булычев // Журнал технической физики. – 1999. – Т.69, № 7. – С. 42–48.
Влияние фоновых примесей на формирование дефектов упаковки в пластинах кремния / Д.И. Бринкевич [и др.] // Микроэлектроника. – 2006. – Т. 35, № 2. – С. 112–116.
Гуль, В.Е. Структура и механические свойства полимеров / В.Е. Гуль, В.Н. Кулешов. – М. : Лабиринт, 1994. – 344 с.
Физическая природа изменения микротвердости по глубине образца / А.Б. Герасимов [и др.] // Физика и химия обработки материалов. – 2004. – № 3. – С. 71–74.
Изменение структуры полиметилметакрилата при облучении миллисекундными лазерными импульсами / С.В. Васильев [и др.] // Квантовая электроника. – 1998. – Т. 25, № 11. – С. 1023–1027.
Исследование структуры граничных слоев полиметилметакрилата методом нарушенного полного отражения / Г.М.Семенович [и др.] // Высокомолекулярные соединения. Сер. А. – 1978. – Т. 20, № 9. – С. 2000–2005.
Модификация приповерхностных слоев пленок полиэтилентерефталата при облучении γ-квантами / Ю.А. Бумай [и др.] // Вестник БГУ. Сер. 1. Физика. Математика. Информатика. – 2012. – № 3. – C. 41–44.
Энциклопедия полимеров. Т.2. – М. : Сов. Энциклопедия, 1974.
Хирт, Дж. Теория дислокаций : пер. с англ. / Дж. Хирт, И. Лоте. – М. : Атомиздат. – 1972. – 600 с.
Most read articles by the same author(s)
- S. VABISHCHEVICH, A. VASUKOV, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, ATOMIC-POWER MICROSCOPY OF FILMS OF POSITIVE DIAZOKHINONNOVOLACHNY PHOTORESIST IMPLANTED BY BORON IONS , Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 12 (2018)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, M. TARASIK, THE LIFETIME OF CHARGE CARRIERS IN PLATES OF SINGLE CRYSTALLINE SILICON WITH FILMS OF A DIAZOQUINON-NOVOLAC PHOTORESIST, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 4 (2021)
- A. VASUKOV, S. VABISHCHEVICH, N. SUKHOVILO, N. VABISHCHEVICH, RESEARCH OF SURFACE OF ASPHALTENES BY ATOMIC-POWER MICROSCOPY, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 4 (2020)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, INDENTATION OF ELECTRON-IRRAUDED FILMS OF DIAZOQUINONE NOVOLAC PHOTORESISTS ON SILICONE, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 1 (2023)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, RADIATION-INDUCED PROCESSES IN PYROLITIC GRAPHITE FILMS USED IN THE COMMERCIAL CYCLOTRON BEAM OUTPUT SYSTEM, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 12 (2019)
- S. RAHOUSKI, V. TANANA, N. VABISHCHEVICH, S. VABISHCHEVICH, IMAGE PROCESSING FOR DETERMINING STRENGTH PARAMETERS OF POLYMER FILMS, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 4 (2021)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, CRACK RESISTANCE OF DIAZOQUINONE-NOVOLACH PHOTORESIST FILMS ON MONOCRYSTALLINE SILICON PLATES, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 4 (2021)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, V. KOLOS, O. ZUBOVA, STRENGTH PROPERTIES OF ELECTRON IRRADIATED FILMS OF NEGATIVE NOVOLAC PHOTORESISTS ON MONOCRYSTALLINE SILICON, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 2 (2023)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, M. LUKASHEVICH, A. YUSHCHIK, A. KHARCHENKO, POLYIMIDE FILMS IMPLANTED BY MANGANESE IONS, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 1 (2024)
- S. VABISHCHEVICH, N. VABISHCHEVICH, D. BRINKEVICH, V. PROSOLOVICH, M. SHULYAKOVSKAYA, V. KOLOS, O. ZUBOVA, ELECTRON IRRADIATED PI2610 POLYIMIDE FILMS ON MONOCRYSTALLINE SILICON, Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences: No. 1 (2024)