ОБРАБОТКА ИЗОБРАЖЕНИЙ ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРОЧНОСТНЫХ ПАРАМЕТРОВ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК
##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##
##plugins.themes.bootstrap3.article.main##
Аннотация
Рассмотрены вопросы использования цифровой обработки изображений поверхности полимера при испытаниях на микротвердость для определения геометрических размеров отпечатков, зоны разрушения и деформации. Построен алгоритм обработки изображения и реализована программа обработки изображений. Результаты моделирования могут быть использованы при испытаниях полимерных пленок на микротвердость для определения прочностных характеристик: микротвердости, трещиностойкости, удельной энергии отслаивания пленки.
##plugins.themes.bootstrap3.article.details##
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.
Библиографические ссылки
Литвинов, Ю.М. Методология определения механических свойств полупроводниковых материалов с помощью метода непрерывного вдавливания индентора / Ю.М. Литвинов, М.Ю.Литвинов // Известия вузов. Материалы электронной техники. – 2004. – № 4. – С. 11–16.
Анисович, А.Г. Оптические эффекты при микроскопии неметаллических материалов / А.Г.Анисович // Литье и металлургия. – 2017. – № 1. – С.110–114.
Bradski, G. Learning OpenCV. Computer vision with the OpenCV library / G.Bradski, A.Kaehler // O'Reilly Media, Inc. – 2008. – 580 р.
Физико-механические свойства облученных пленок диазохинон-новолачного фоторезиста на кремнии / С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2020. – № 12. – C. 60–64.
Прочностные свойства структур фоторезист – кремний, γ-облученных и имплантированных ионами В+ и Р+ / С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2016. – № 12. – C. 30–36.
Adhesion of diazoquinon-novolac photoresist films with implanted boron and phosphorus ions to single-crystal silicon / S.A. Vabishchevich [et al.] // High energy chemistry. – 2020. – V. 54, № 1. – P. 46–50.