PLASMA FAST NEUTRALS SOURCE WITH LOW OPERATING PRESSURE
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
The article is devoted to creating plasma fast neutrals source with low operating pressure. The problem of reducing operating pressureof the fast neutrals source that is important for improving the quality of the formed surfaces and structures can be divided into two parts: reducing the minimal pressure required to maintain gas discharge and creating conditions for effective neutralization and creation of the fast neutrals beam. The article discusses both the problems and proposes the methods to solve them. The three-electrode system is proposed in which insertion of the third electrode reduces the lower bound of the operating pressure range as well as allows creating the pressure differential between internal and external volumes of the fast neutrals source. The article also discusses the characteristics of the created fast neutrals source prototype.
Article Details
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
References
Shimokawa, F. Reactive-fast-atom beam etching of GaAs using Cl2 gas / F. Shimokawa // J. Appl. Phys. – 1989. – V. 66, № 6. – P. 2613 – 2618.
Маишев, Ю.П. Физические принципы формирования пучков быстрых атомов резонансной перезарядкой пучков ионов / Ю.П. Маишев, С.Л. Шевчук, Т.Н. Матвеев // Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника (физика, технология, диагностика и моделирование: тр. ФТИАН. Т. 19. – М.: Наука, 2008. – С. 69 – 77.
Грановский, В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / В.Л. Грановский. – М.: Изд-во «Наука». Гл. ред. физ.-мат. лит., 1971. – 543 с.
Барченко, В.Т. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве / В.Т. Барченко, Ю.А. Быстров, Е.А. Колгин. – СПб.: Энергоатомиздат, 2001. – 332 с.
Григорьев, С.Н. Модификация поверхности тлеющим разрядом с электростатическим удержанием электронов / С.Н. Григорьев, А.С. Метель. – М.: МГТУ «Станкин», «Янус-К», 2007. – 452 с.