ФИЗИКО-МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ОБЛУЧЕННЫХ ПЛЕНОК ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА КРЕМНИИ

##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##

Просмотров аннотации: 135
Загрузок PDF: 87
pdf (rus)
Опубликован: дек 30, 2020
Ключевые слова:
diazoquinon-novolac resist, γ-irradiation, microhardness, adhesion диазохинон-новолачный резист, γ-облучение, микротвердость, адгезия
Выпуск
№ 12 (2020)
Раздел
Физика

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

С. А. ВАБИЩЕВИЧ
Полоцкий государственный университет
Н. В. ВАБИЩЕВИЧ
Полоцкий государственный университет
Д. И. БРИНКЕВИЧ
Белорусский государственный университет, Минск
В. С. ПРОСОЛОВИЧ
Белорусский государственный университет, Минск

Аннотация

Исследованы адгезионные и прочностные свойства структур фоторезист ФП9120 – кремний, облученных γ-квантами 60Со дозами до 300 кГр. Облучение приводит к снижению микротвердости структур фоторезист – кремний при нагрузках 5 г и выше, что связано с ухудшением адгезии пленки позитивного фоторезиста ФП9120 к кремнию после γ-облучения. Заметные изменения прочностных и адгезионных свойств структур фоторезист – кремний наблюдались при дозах γ-квантов свыше 200 кГр. Удельная энергия отслаивания G пленок фоторезиста толщиной 1,0 мкм снижалась после облучения γ-квантами в 1,5–4 раза, что обусловлено, вероятнее всего, разрывом связей Si–O–C на границе раздела фоторезист – кремний.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
ВАБИЩЕВИЧ, С. А., ВАБИЩЕВИЧ, Н. В., БРИНКЕВИЧ, Д. И., & ПРОСОЛОВИЧ, В. С. (2020). ФИЗИКО-МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ОБЛУЧЕННЫХ ПЛЕНОК ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА КРЕМНИИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, (12), 60-64. извлечено от https://journals.psu.by/fundamental/article/view/461
Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution» («Атрибуция») 4.0 Всемирная.

Биографии авторов

С. А. ВАБИЩЕВИЧ, Полоцкий государственный университет

канд. физ.-мат. наук, доц.

Д. И. БРИНКЕВИЧ, Белорусский государственный университет, Минск

канд. физ.-мат. наук

В. С. ПРОСОЛОВИЧ, Белорусский государственный университет, Минск

канд. физ.-мат. наук, доц.

Библиографические ссылки

Моро, У. Микролитография. Принципы, методы, материалы : в 2-х ч. / У. Моро. – М. : Мир, 1990. –Ч. 2. – 632 с.

Ионная имплантация позитивных фоторезистов / Д.И. Бринкевич [и др.]. // Микроэлектроника. – 2014. – Т. 43, № 3. – C. 193–199.

DNQ-novolac photoresist revisited: 1H and 13C NMR evidence for a novel photoreaction mechanism / Roy Debmalya [et al.] // Magnetic resonance in chemistry. – 2003. – V. 41. – P. 84–90.

Серия позитивных фоторезистов ФП-9120-1.0; ФП-9120-1.8; ФП-9120-2.0 : ТУ 2378-015-29135749-2015 : Введ 28.09.15. – М. : ЗАО «Фраст-М», 2015. – 45 с.

Adhesion of diazoquinon-novolac photoresist films with implanted boron and phosphorus ions to single-crystal silicon / S.A. Vabishchevich [et al.] // High energy chemistry. – 2020. – V. 54, № 1. – P. 46–50.

Механизм адгезионного взаимодействия пленок диазохинон-новолачного фоторезиста с монокристаллическим кремнием/ Бринкевич С.Д. [и др.] // Журнал прикладной спектроскопии. – 2020. – T. 87, № 4. – С. 589–594.

Прочностные свойства структур фоторезист ФП9120 – кремний / С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2014. – № 12. – C. 69–73.

Микротвердость пленок полиимида и полиэтилентерефталата, облученных гамма-квантами 60Co / Д.И. Бринкевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2017. – № 12. – C. 30–34.

Measuring mechanical properties of coatings: a methodology applied to nano-particle-filled sol-gel cjating on glass / J. Malzbender [et al.] // Materials Science and Engineering R. – 2002. – V. 36 – P. 47–103.

Анисович, А.Г. Искусство металлографии: использование методов оптического контрастирования / А.Г. Анисович // Весцi НАН Беларусi. Сер. фiз.-тэхн. навук. – 2016. – № 1. – С. 36–42.

Анисович, А.Г. Визуализация поверхности методом дифференциально-интерференционного контраста / А.Г. Анисович, И.Н. Румянцева // Литье и металлургия. – 2013. – № 3. – С. 156–162.

Анисович, А.Г. Оптические эффекты при микроскопии неметаллических материалов / А.Г.Анисович // Литье и металлургия. – 2017. – № 1. – С. 110–114.

Вабищевич, С.А. Прочностные свойства структур фоторезист – кремний, γ-облученных и имплантированных ионами В+ и Р+/ С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2016. – № 12. – C. 30–36.

EPR Spectroscopy of Diazoquinon-Novolac Resist Films Implanted with Р+ and B+ Ions / D.I. Brinkevich [et al.] // High energy chemistry. – 2020. – V. 54, № 2. – P. 115–122.

Шугуров, А.Р. Особенности определения механических характеристик тонких пленок методом наноиндентирования / А.Р. Шугуров, А.В. Панин, К.В. Оскомов // Физика твердого тела. – 2008. – Т. 50, № 6. – С. 1007– 1012.

Вабищевич, С.А. Подавление радиационного упрочнения в кремнии, легированном германием / С.А. Вабищевич, Н.В. Вабищевич, Д.И. Бринкевич // Физика и химия обработки материалов. – 2006. – № 4. – С. 12–14.

Бринкевич, Д.И. Модификация пленок диазохинонноволачного фоторезиста имплантацией ионов бора / Д.И. Бринкевич, В.С. Просолович, Ю.Н. Янковский // Журн. Белорус. гос. ун-та. – 2020. – № 2. – С. 62–69.

Спектры НПВО имплантированных ионами бора пленок диазохинонноволачного фоторезиста на кремнии / В.С. Просолович [и др.] // Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 13-й Междунар. конф., Минск, 30 сент.–3 окт. 2019 г. – Минск : Изд. ц-р БГУ, 2019. – С. 169–171.

Рекомендуемые статьи автора (авторов)

1 2 3 4 > >>