ПЛЕНКИ НЕГАТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА AZ nLOF 5510, ОБЛУЧЕННЫЕ ЭЛЕКТРОНАМИ

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

С. А. АБРАМОВ
Д. И. БРИНКЕВИЧ
В. С. ПРОСОЛОВИЧ
О. А. ЗУБОВА
С. А. ВАБИЩЕВИЧ
Н. В. ВАБИЩЕВИЧ
Зоир Тохир ўғли КЕНЖАЕВ
С. Б. ЛАСТОВСКИЙ

Аннотация

Методом ИК-Фурье-спектроскопии с использованием приставки для диффузного отражения исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF 5510 толщиной 0,99 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. Облучение электронами с энергией 3,5 МэВ дозой до Ф = 7·1016·см–2 проводилось на линейном ускорителе электронов ЭЛУ-4. Показано, что углерод-водородные связи основного компонента фоторезиста – фенолформальдегидной смолы – стабильны вплоть до доз ~ (1–3)·1016 см–2. Связанные с растворителем полосы исчезают из спектра при дозах облучения < 1·1015 см–2. При облучении в интервале волновых чисел 1620–1660 см–1 возникают полосы, обусловленные формальдегидом, образующимся в результате реакции β-фрагментации кислород-центрованного радикала. Полосы, связанные с колебаниями ароматического кольца, достаточно стабильны. Их интенсивность заметно снижается только при дозе Ф = 7∙1016 см-2. В области валентных колебаний кратных связей С=О при облучении наблюдалась сложная перестройка спектра, обусловленная несколькими процессами, протекающими при взаимодействии компонентов фоторезиста во время облучения электронами. В частности, могут наблюдаться трансформация ближайших заместителей связей С=О, сшивка молекул, увеличение количества сопряженных кратных связей как результат формирования хиноидных структур.

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Как цитировать
АБРАМОВ, С. А., БРИНКЕВИЧ, Д. И., ПРОСОЛОВИЧ, В. С., ЗУБОВА, О. А., ВАБИЩЕВИЧ, С. А., ВАБИЩЕВИЧ, Н. В., КЕНЖАЕВ, З. Т. ў., & ЛАСТОВСКИЙ, С. Б. (2025). ПЛЕНКИ НЕГАТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА AZ nLOF 5510, ОБЛУЧЕННЫЕ ЭЛЕКТРОНАМИ. Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки, (1), 39-46. https://doi.org/10.52928/2070-1624-2025-44-1-39-46
Биографии авторов

Д. И. БРИНКЕВИЧ, Белорусский государственный университет, Минск

канд. физ.-мат. наук

В. С. ПРОСОЛОВИЧ, Белорусский государственный университет, Минск

канд. физ.-мат. наук, доц.

С. А. ВАБИЩЕВИЧ, Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой

канд. физ.-мат. наук, доц.

Зоир Тохир ўғли КЕНЖАЕВ, Ташкентский государственный технический университет имени Ислама Каримова

д-р философии (PhD) по физ.-мат. наукам, доц.

С. Б. ЛАСТОВСКИЙ, ГО «НПЦ НАН Беларуси по материаловедению», Минск

канд. физ.-мат. наук

Библиографические ссылки

Pretsch E., Bühlmann, P., & Affolter C. (2000). Structure Determination of Organic Compounds. Tables of Spectral Data. Berlin – Heidelberg: Springer – Verlag.

Brinkevich, S. D., Grinyuk, E. V., Brinkevich, D. I., & Prosolovich V. S. (2020). Modification of Diazoquinone–Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions. High energy chemistry, 54(5), 342–351. DOI: 10.31857/S0023119320050046.

Brinkevich, D. I., Kharchenko, A. A., Prosolovich, V. S., Odzhaev, V. B., Brinkevich, S. D., & Yankovski, Yu. N. (2019). Reflection spectra modification of diazoquinone-novolak photoresist implanted with B and P ions. Russian Microelectronics, 48(3), 197–201. DOI: 10.1134/S1063739719020021.

Brinkevich, D. I., Grinyuk, E. V., Prosolovich, V. S., Brinkevich, S. D., Kolos, V. V., & Zubova, O. A. (2025). Otrazhatel'no-absorbtsionnaya IK Fur'e-spektroskopiya fotorezistivnykh plenok na kremnii [Reflective Absorption IR Fourier-Spectroscopy of Photoresistive Films on Silicon]. Pribory i metody izmerenii [Devices and methods of measurements], 16(1), 242–250. (In Russ., abstr. in Engl.).

Odzhaev, V. B., Pyatlitski, A. N., Prosolovich, V. S., Kovalchuk, N. S., Soloviev, Ya. A., Zhygulin, D. V., … Brinkevich, D. I. (2022). Attenuated Total Reflection Spectra of Nitrided SiO2/Si Structures. Journal of Applied Spectroscopy, 89(4), 665–670. DOI: 10.1007/s10812-022-01408-3.

Poljansek, I., Sebenik, U., Krajnc, M. (2006). Characterization of phenol–urea–formaldehyde resin by inline FTIR spectroscopy. Journal of Applied Polymer Science, 99(5), 2016–2028. DOI: 10.1002/app.22161.

Brinkevich, D. I., Brinkevich, S. D., Petlitsky, A. N., & Prosolovich, V. S. (2021). Transformation of the Spectra of a Attenuated Total Reflection when Drying a Diazoquinone-Novolach Photoresist. Russian Microelectronics, 50(4), 239–245. DOI: 10.1134/S106373972104003X.

Brinkevich, S. D., Brinkevich, D. I., & Prosolovich, V. S. (2021). Modification of Diazoquinone-Novolac Photoresist Films by the Implantation of Antimony Ions. Russian Microelectronics, 50(1), 33–38. DOI: 10.1134/S1063739720060025.

Brinkevich, S. D., Brinkevich, D. I., Prosolovich, V. S., Lastovskii, S. B., & Pyatlitski, A. N. (2021). Frustrated total internal reflection spectra of diazoquinone–novolac photoresist films. Journal of Applied Spectroscopy, 87(6), 1072–1078. DOI: 10.1007/s10812-021-01111-9.

Tolstorozhev, G. B., Skornyakov, I. V., Bel'kov, M. V., Shadyro, O. I., Brinkevich, S. D., & Samovich, S. N. (2012). IR spectra of benzaldehyde and its derivatives in different aggregate states. Opt. Spektrosk., 113(2), 179–183.

Belkov, M. V., Brinkevich, S. D., Samovich, S. N., Skornyakov, I. V., Tolstorozhev, G. B., & Shadyro, O. I. (2011). Infrared spectra and structure of molecular complexes of aromatic acids. J. Appl. Spectrosc., 78(6), 794–801.

Böcker, J. (1997). Spektroskopie. Wurzburg (Germany): Vogel Industrie Medien GmbH & Co KG.

Brinkevich, D. I., Brinkevich, S. D., Vabishchevich, N. V., Odzhaev, V. B., & Prosolovich, V. S. (2014). Ion implantation of positive photoresists. Russian Microelectronics, 43(3), 194–200. DOI: 10.1134/S106373971401003X.

Oleshkevich, A. N., Lapchuk, N. M., Odzhaev, V. B., Karpovich, I. A., Prosolovich, V. S., Brinkevich, D. I., & Brinkevich, S. D. (2020). Electronic Conductivity in a Р+-Ion Implanted Positive Photoresist. Russian Microelectronics, 49(1), 55–61. DOI: 10.1134/S1063739719060076.

Рекомендуемые статьи автора (авторов)

<< < 1 2 3 4 > >>