IMAGE PROCESSING FOR DETERMINING STRENGTH PARAMETERS OF POLYMER FILMS

Main Article Content

S. RAHOUSKI
V. TANANA
N. VABISHCHEVICH
S. VABISHCHEVICH

Abstract

The issues of using digital processing of images of the polymer surface during microhardness tests to determine the geometric dimensions of indentations, zones of destruction and deformation are considered. An image processing algorithm has been built and an image processing program has been implemented. The simulation results can be used when testing polymer films for microhardness to determine the strength characteristics: microhardness, crack resistance, specific peeling energy of the film.

Article Details

How to Cite
RAHOUSKI, S., TANANA, V., VABISHCHEVICH, N., & VABISHCHEVICH, S. (2021). IMAGE PROCESSING FOR DETERMINING STRENGTH PARAMETERS OF POLYMER FILMS. Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences, (4), 59-63. Retrieved from https://journals.psu.by/fundamental/article/view/858
Section
Информационные технологиии
Author Biography

S. VABISHCHEVICH, Polotsk State University

канд. физ.-мат. наук, доц.

References

Литвинов, Ю.М. Методология определения механических свойств полупроводниковых материалов с помощью метода непрерывного вдавливания индентора / Ю.М. Литвинов, М.Ю.Литвинов // Известия вузов. Материалы электронной техники. – 2004. – № 4. – С. 11–16.

Анисович, А.Г. Оптические эффекты при микроскопии неметаллических материалов / А.Г.Анисович // Литье и металлургия. – 2017. – № 1. – С.110–114.

Bradski, G. Learning OpenCV. Computer vision with the OpenCV library / G.Bradski, A.Kaehler // O'Reilly Media, Inc. – 2008. – 580 р.

Физико-механические свойства облученных пленок диазохинон-новолачного фоторезиста на кремнии / С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2020. – № 12. – C. 60–64.

Прочностные свойства структур фоторезист – кремний, γ-облученных и имплантированных ионами В+ и Р+ / С.А. Вабищевич [и др.] // Вестн. Полоц. гос. ун-та. Сер. С, Фундам. науки. – 2016. – № 12. – C. 30–36.

Adhesion of diazoquinon-novolac photoresist films with implanted boron and phosphorus ions to single-crystal silicon / S.A. Vabishchevich [et al.] // High energy chemistry. – 2020. – V. 54, № 1. – P. 46–50.