PLASMA-EMISSION SYSTEMS FOR ELECTRON-BEAM TECHNOLOGIES

Main Article Content

D. ANTONOVICH
V. GRUZDEV
P. SOLDATENKO
V. ZALESSKI

Abstract

Continuation of the work published in the previous issue. The design of a plasma electron source with crossed E × H fields capable of forming low-energy electron and ion beams for the realization of plasmachemical processes and technologies for depositing films and coatings for various purposes by alternating or simultaneous thermophysical electronic and modifying ionic effects is presented. A number of sketches of designs of structures of plasma sources promising for use for realization of combined action by electron-ion beams are proposed.

Article Details

How to Cite
ANTONOVICH, D., GRUZDEV, V., SOLDATENKO, P., & ZALESSKI, V. (2017). PLASMA-EMISSION SYSTEMS FOR ELECTRON-BEAM TECHNOLOGIES. Vestnik of Polotsk State University. Part C. Fundamental Sciences, (4), 45-51. Retrieved from https://journals.psu.by/fundamental/article/view/3485
Section
Physics
Author Biographies

D. ANTONOVICH, Polotsk State University

канд. техн. наук, доц.

V. GRUZDEV, Polotsk State University

д-р техн. наук, проф.

V. ZALESSKI, State Scientific Institution “Physical-Technical Institute of The National Academy of Sciences of Belarus”

д-р физ.-мат. наук, доц.

References

Плазменные эмиссионные системы для электронно-лучевых технологий. Часть 1 / В.Г. Залесский [и др.] // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2016. – № 12. – С. 37–44.

Антонович, Д.А. Электронно-ионный источник для реализации комбинированного воздействия на поверхность / Д.А. Антонович, В.А. Груздев, В.Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С, Фундаментальные науки. – 2014. – № 4. – С. 113–118.

Антонович, Д.А. Применение низкоэнергетичных пучков заряженных частиц для реализации комбинированного воздействия на материалы / Д.А. Антонович, В.Г. Залесский, П.Н. Солдатенко // Перспективные материалы и технологии : сб. материалов междунар. симп. – Витебск, 2015. – С. 216–218.

Плазменные эмиссионные системы с ненакаливаемыми катодами для ионно-плазменных технологий / В.Т. Барченко [и др.] ; под общ. ред. В.Т. Барченко // СПб. : Изд-во СПбГЭТУ «ЛЭТИ», 2011. – 220 с.

Семенов, А.П. Пучки распыляющих ионов: получение и применение / А.П. Семенов. – Улан-Удэ : Изд-во БНЦ СО РАН, 1999. – 207 с.

Исследование влияния ионно-электронной эмиссии на характеристики электронного источника с плазменным катодом / С.В. Григорьев [и др.] // Плазменная эмиссионная электроника : тр. II Междунар. семинара, Улан-Уде, 23-30 июня 2009 г. / БНЦ СО РАН. – Улан-Уде, 2009. – С. 37–44.

Гаврилов, Н.В. Формирование пучка ионов, извлекаемых из плазмы тлеющего разряда / Н.В. Гаврилов, Д.Р. Емлин // ЖТФ. – 2000. – Т. 70, № 5. – С. 74–81.

Никулин, С.П. Влияние ионной эмиссии на характеристики тлеющего разряда с полым катодом / С.П. Никулин // ЖТФ. – 2000. – Т. 70, № 10. – С. 122–124.

Кузьмичёв, А. И. Магнетронные распылительные системы / А. И. Кузьмичёв. – Киев : Аверс, 2008. – Кн. 1 : Введение в физику и технику магнетронного распыления. – 244 с.